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MicroLED光互连GaN-on-SimicroPD光谱匹配晶圆键合

GaN-on-Si 同质收发:为什么会发光的器件,未必接得住自己的光?

从 CEA-Leti 的原始工艺、光谱与带宽图,解释 GaN-on-Si 共平台收发的谱线失配、光学腔取舍和真正的链路验证方法。

Kaiyo Nan
この記事は中国語で書かれ、Google 翻訳で自動翻訳されています。
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MicroLED 光互连 · 技术路线 02。与“GaN 发射器配硅接收器”不同,这一篇研究用同一类 InGaN/GaN 外延同时制作 MicroLED 与微型光电探测器的路线,重点是晶圆集成、光谱匹配和接收带宽。

把一颗发光二极管反向偏置,它有可能成为光电探测器。于是,一个很诱人的设想出现了:同一片外延、同一套工艺,既做发送像素,也做接收像素,再一起集成到 CMOS 上。

省掉一类独立器件之后,阵列似乎更容易做密,收发位置也更容易统一。但“器件能收光”离“接得好”还隔着一个问题:它对哪些波长敏感,而发送端又把光发在哪些波长?

CEA-Leti 在 2024 年的一篇研究中同时给出了集成流程、探测器频响以及发射与接收光谱。把这些证据放在一起,会发现这条路线的核心矛盾:工艺希望收发共用,光电性能却未必允许它们共用同一种最优外延。

1. 先把“同质”说清楚:不是直接在成品 CMOS 上长 GaN

这里的“同质收发”,指发射器与接收器可由同一套 InGaN/GaN 外延制作。它不意味着 GaN 与硅变成同一种材料,也不意味着器件直接在已经完成的 CMOS 电路上高温生长。

CEA 论文的路线是先完成外延,将外延层通过非精确对准的金属–金属键合转移至硅接收晶圆,再定义像素及后续互连。顺序很重要:不是先把每一个像素完整做出,再逐个对准落到驱动节点;而是先把薄膜放上去,再通过光刻决定像素的位置。[1,§3]

CEA-Leti Fig.4 原始工艺图:金属沉积、晶圆键合、去除衬底后再制作 LED
原始证据 CEA-F04|Le Maitre 等,Short range optical communication with GaN-on-Si microLED and microPD matrices,2024,DOI 10.1002/jsid.2012,Fig. 4。这里使用 HAL 版本:PDF 第 5 页=论文印刷第 4 页。原图是工艺流程示意,不是全链路实测结果;图内 Si CMOS 表示集成方向,本文实验批次转移至标准 Si(100) 晶圆,不应据此声称通信 ASIC 已全阵列运行。© 2024 作者,原文标注 CC BY-NC-ND 4.0;保留原图和图注,未重绘。原文版本。

这样可以把一部分键合对准压力转移到后续光刻与互连设计中,但精度问题并没有消失。薄膜厚度、应力、晶圆翘曲、像素到金属的套刻、接触质量与热预算仍然需要控制。

论文讨论了做到 2.5 μm pitch 的工艺能力,但这不等于 2.5 μm pitch 的完整高速收发阵列已经验证。驱动器、TIA、光通道隔离和测试接入也必须装进同一面积预算。本文使用的样品外延原本针对显示优化,因此它更适合作为“这套平台还缺什么”的研究,而不是量产通信芯片规格书。

2. 最关键的原图:发射峰与接收窗口没有对上

CEA Fig.25 原始光谱图:蓝光和绿光外延微型探测器的量子效率,与蓝色 MicroLED 发射光谱对照
原始证据 CEA-F25|Le Maitre 等,JSID 2024,DOI 10.1002/jsid.2012,Fig. 25,HAL PDF 第 15 页=印刷第 14 页。实测直径 25 μm microPD,反向偏压 −5.2 V。蓝/绿曲线使用左轴量子效率,黑线使用右轴归一化发射强度。蓝色曲线对应蓝光发射优化的外延,绿色曲线对应绿色发射优化的外延;颜色不是该器件探测的唯一波长。原图与原图注保留。论文与图号。

先看黑线,它给出典型蓝色 MicroLED 的发射光谱,峰值在约 450 nm 附近;这个位置是读图的近似值,不是重新测量。再看蓝色探测曲线:它在较短波长有明显响应,但到了发射峰附近已经很低。论文正文报告,400 nm 处量子效率可以超过 20%,而在同类发光器件的中心波长,探测效率接近可以忽略的水平。[1,§5.2]

这意味着,“400 nm 量子效率不错”和“能高效接收约 450 nm 的蓝色 MicroLED”不是同一个结论。给两条曲线都贴上“蓝光”标签,反而会把问题掩盖掉。

黑线经过归一化,峰值约等于 1,不能与左轴的 20% 直接比较高度。它没有告诉我们发出了多少瓦,只告诉我们光功率在波长上怎样分布。图中标出的响应度 A/W 也对应特定谱点,不能把某个峰值当成整个发射谱上的固定响应度。

为什么同一类量子阱的发射与吸收会错位?

InGaN/GaN 量子阱中的发光与吸收并不是完全镜像。在极性外延中,内建电场会改变能带和电子、空穴波函数的重叠,量子限制斯塔克效应(QCSE)会影响发射能量。注入电流对电场的屏蔽、反向偏压和载流子所处状态又不同,因此不能假设反偏器件的吸收窗口必然对准正偏器件的发射峰。

论文将这类谱线错位与 Stokes shift 联系起来,并利用量子阱吸收模型和 TCAD 去研究成分、厚度及电场的作用。这里的工程结论是针对这类结构:如果希望同一外延兼顾收发,必须证明工作偏置下的谱线重叠,而不能只证明它分别有发光和光电流。 这也不意味着所有 GaN 双功能器件都只能得到同样结果。

3. 不要只报探测器峰值响应度,要计算真正收到的电流

实际接收器面对的是一段光谱。若 Ptx(λ) 是发射光谱功率密度,ηpath(λ) 是从出光参考面到探测器的传输比例,Rpd(λ) 是接收器响应度,则:

Iph = ∫ Ptx(λ) · ηpath(λ) · Rpd(λ) dλ。

Ptx 的单位可以用 W/nm,Rpd 用 A/W,沿波长积分后得到 A。只要所有曲线使用同一波长定义和光功率参考面,这个式子就能把外延、耦合和接收端连起来。

相比单独追求一个高峰值,更值得关心的是谱加权响应度:

Reff = ∫ Srx(λ) · Rpd(λ) dλ,且 ∫ Srx(λ)dλ = 1。

这里 Srx 是到达探测器的归一化光谱。这样即使发射峰随电流或温度移动,也能重新计算真正可用的接收响应。

一个只用于理解量级的例子:假设到达探测器的窄带光为 450 nm、10 μW,且没有内部增益。由 R = QE·qλ/(hc) 可得:量子效率为 1% 时,响应度约 0.00363 A/W,光电流约 36.3 nA;量子效率为 10% 时,则约为 363 nA。这两个 QE 是本文设置的假设,不是从原图抽取的两组实验结果。

光纤里传来相同功率,只因谱匹配和吸收效率不同,TIA 面对的信号电流就可能相差一个数量级。但 BER 不会因此必然改善十倍:热噪声、暗电流、散粒噪声、带宽、码间干扰和判决电路都会参与结果。需要把 Reff 与实际接收噪声和频响一起测。

4. 调外延、调光学腔,还是换探测器?

图 25 的绿色曲线提供了一条思路:使用原本为更长波长发射优化的外延来做探测器,让它与蓝色发射光谱有更好的重叠。但这样做,可能就不再能把收发双方全部放在同一套最优外延上。工艺统一与器件独立优化之间,需要重新取舍。

另一条路径是利用器件内部的光学干涉增强目标波段吸收。

CEA Fig.15 原图:包含光学腔效应前后的仿真响应度,以及仿真和实测对照
原始证据 CEA-F15|Le Maitre 等,JSID 2024,DOI 10.1002/jsid.2012,Fig. 15,HAL PDF 第 11 页=印刷第 10 页。A 图:是否计入光学腔效应的仿真;B 图:仿真与实测。条件 L=50 μm、V=−1 V、照射功率密度 10 mW/cm²。红色实验点与绿色模型曲线不是两组独立实测。原图及图注完整保留。原始论文。

模型中加入光学腔效应后,响应度出现明显波峰,部分波段的吸收得到增强。这里的“腔”不是把器件变成激光器,而是层间反射和干涉改变了有源区域的光场分布。作者在这一模型中报告最高约三倍的吸收增强;这是结构和波长相关的仿真结果,不是所有波段都提高三倍。

B 图对模型与实测作了比较,但模型参数还经过层厚、极化和铟组分调整。因此它支持“这些机制能解释观测到的谱形”,不等于证明模型已经能无校准地预测另一个批次。

腔增强的代价,是最佳响应可能变得依赖层厚与波长。论文还观察到,同一晶圆上两个样品的响应峰有差别,并将其与 n-GaN 厚度和光学腔高度变化联系起来。对一条真实链路,应该评估厚度分布与发射峰漂移后的 Reff,而不只比较室温下对得最齐的两个峰。

改进方向主要解决什么新增约束
共用外延,调整量子阱成分、厚度和电场尽量保持统一工艺并改善谱匹配发射效率、复合速度、吸收效率可能相互牵制
发射与探测分别优化外延各自选择更合适的工作窗口增加工艺组合、转移或键合步骤及测试管理
设计光学腔提升目标波段附近的吸收厚度、温度及发射谱漂移可能影响收益
采用独立硅探测器不再要求 GaN 发光外延兼顾探测需要另一种器件及其集成;仍要解决电容、噪声、隔离和功耗

这四条路径没有脱离场景的排名。如果目标是尽量统一晶圆流程,第一条值得探索;如果更看重接收裕量,接受分开优化可能更合适。决定依据应是同样有效吞吐、功耗与环境范围内的链路结果。

5. 光谱对上之后,接收器够快吗?

CEA Fig.22 原始实测曲线:不同尺寸microPD的带宽随反向偏压变化
原始证据 CEA-F22|Le Maitre 等,JSID 2024,DOI 10.1002/jsid.2012,Fig. 22,HAL PDF 第 15 页=印刷第 14 页。实测使用 405 nm 激光激励;D10、D25、D50 分别为直径 10、25、50 μm 的圆器件,SQ36 为边长 36 μm 的方器件。横轴为反向偏压幅值,图中 6 V 对应反向偏置,不是正向驱动。原文报告 D10 在该条件下最高约 600 MHz。来源。

较小器件在更高反偏下获得较大带宽,与电容限制的解释相符。缩小面积有利于降低结电容;调整反偏会改变耗尽区、电场和载流子收集。但“做小就好”又会碰到另一组约束:接收面积变小,光斑和装配偏移就更容易影响耦合,接触及布线寄生也不会自动归零。

读这组数据时,有三条边界不能丢:

  • 激励波长是 405 nm。它不能直接替代图 25 中约 450 nm 发射谱下的光电流与高速性能。
  • 原文描述的激光测试源带宽约为 1 GHz,接收放大器带宽为 1.2 GHz。实测链路有仪器限制,不能把测量上限当成器件的无限带宽证明。
  • 另一个 36 μm 方形 microPD 在反偏 6 V 下显示最高 1 Gb/s 的开眼图,但那不是 D10 样品,也不是全阵列 BER 认证。开眼图不能替代长期误码统计。

带宽、QE 和眼图分别测得,并不意味着已经证明同一组收发器在同一偏置、温度和光路下完成了目标通信。最后仍需要真正连接发送器和接收器,把这三组结果放到同一次实验里。

6. 这条路线最值得补的不是一个“纪录”,而是一张匹配矩阵

可以建立以下验证顺序,每一步都保留通道与样品身份,不把不同样品的最好结果拼在一起。

验证步骤固定/扫描变量输出与判断
发射谱标定LED 电流、温度、芯片位置绝对光谱功率、峰位、谱宽及分布
接收谱标定PD 偏压、温度、晶圆位置R(λ)、暗电流、Reff;不是只留最高 QE
RF 与电容诊断尺寸、偏压、光功率;去除夹具影响频响、输入电容和噪声,识别接收限制
实际器件配对固定真实 LED、PD、距离与耦合结构BER、有效吞吐和完整功耗;与谱积分预测核对
稳定性验证温度循环、批次、装配偏移、邻道开启最差通道裕量、失效分布和可恢复性

这一方法还能区分两种表面上相似的故障:光电流偏小,可能是光没有耦合过来,也可能是光已经到了,但探测器在该波长不敏感。先用已标定功率计核对接收参考面的入射功率,再结合 R(λ) 计算预期光电流,就能避免把所有问题都推给“对准不好”。

对想深入这个方向的人,谱线匹配、偏压—带宽—噪声的联合表征、晶圆层厚与链路裕量的关联,都是能做成具体技术作品的切口。它们不需要夸大某条路线已经胜出,而是提供一种判断:设计改动究竟增加了多少真正可用的通信余量。

与上一篇的异质集成路线相比,这条路线把更多复杂性放在外延与接收器共同设计中。前者需要把分开的好器件有效地集成起来;后者则要先证明,同一工艺平台上的收与发能够彼此匹配。“能做在一起”和“适合一起工作”,是两道需要分别回答的问题。

来源与适用边界

Le Maitre, P. 等,Short range optical communication with GaN-on-Si microLED and microPD matrices,Journal of the Society for Information Display,2024,32(12),797–814,DOI 10.1002/jsid.2012。出版页面;HAL 存档 cea-04768418v1。本地版本带一页 HAL 封面,因此 PDF 页码比文内印刷页码大 1。

核对日期:2026-09-17。图表来源 © 2024 The Author(s),原论文由 Wiley Periodicals LLC 代表 Society for Information Display 出版,并标注 CC BY-NC-ND 4.0。本文仅引用直接分析所需的图表;图内数据、英文图注未修改,中文评论单独呈现。文章不代表原作者或机构的意见,也不向读者授予超出原许可或适用引用规则的复用权利。