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MicroLED光互连光纤束SiN光学耦合

光纤束、光中介层与片内波导:MicroLED 的光应该走哪条路?

光纤束、光中介层和片内波导并非简单三选一。从原始方向图、耦合仿真和传播损耗,讲透模式匹配、材料与装配公差。

Kaiyo Nan
This article was written in Chinese and auto-translated via Google Translate.
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MicroLED 光互连 · 技术难点深读。原始证据与独立分析分开呈现,点击原图可查看大图。

MicroLED die 已经发出了光,不代表光链路已经成立。接下来至少要回答三个问题:光能否进入传输结构?经过布线后还剩多少?最后落到的是目标 PD,还是相邻通道?

最容易被架构图掩盖的事实是:短光路也可能有很大损耗,而一条很细的波导未必装得下 LED 发出的所有光。 这决定了 die 的出光结构、微光学、布线与接收器必须一起设计。

1. 不是三选一:先把不同层次拆开

名称它回答什么能与什么组合
光纤束/成像光纤用什么介质跨越两端,怎样保持空间通道关系两端可以是独立芯片,也可以经中介层耦合
光中介层光路、电路和芯粒集成在哪里可以承载 SiN、聚合物等波导,再接光纤
片内波导光在芯片内怎样受约束地传播、转弯和分配可以连接同片 LED/PD,也可以作为封装光路的一段

“硅中介层”只说明载体,并不保证光传播在硅芯中;“纤芯数”也不必等于数据通道数。一个光斑可以覆盖多个纤芯,系统要维护的是发送像素到接收像素的映射。CEA 的分层架构讨论与 MOSAIC 的成像光纤设计都提醒我们,不应把这些名词列成同一维度的路线竞争。CEA §1、§4.2;MOSAIC §3.3。

2. 第一关在 die 出口:光落进去了,未必就传过去了

微米级发光面积不自动等于小角度光束。量子阱位置、台面侧壁、反射层、出光窗口与电极遮挡决定光从哪里出来。垂直出光适合面对纤芯或微透镜;片内横向波导则要求把辐射引向侧面,并匹配波导允许传播的模式。把显示用 die 原样接到单模波导上,不能只靠“对准得更精确”。

这里要引入一个基础量:光学扩展量 étendue。在几何光学适用、无增益的被动光学系统中,它约束发光面积与出射角范围的组合。透镜可以把光束变窄,但通常要交换更大的光束截面;不能把大面积、宽角度的非相干辐射无损压进任意小的接收口。接收口即使截获了光,单模波导仍只接受与其模式匹配的部分。近场或共振改变发射过程时需要电磁模型,不能机械套用远场光线积分。

CEA 原始 Fig. 8:两个偶极取向的非相干 FDTD 波导耦合结果为20%和5%
原始证据 D12-CEA-F08:Patrick Le Maitre 等,Short range optical communication with GaN-on-Si microLED and microPD matrices,2024,HAL 存档版本,PDF p7/印刷 p6,Fig. 8;DOI。这是非相干 3D FDTD 仿真:小光源置于抛物面镜焦点,假设 GaN 与波导折射率完美匹配;两种偶极取向约 20% 和 5%,平均 12.5%。不是链路实测,也不是所有 die 的固定效率。© 2024 The Author(s);来源标注 CC BY-NC-ND 4.0。原图和图注保留,未重绘;此处为直接技术分析所需的局部引用。

真正值得读的是两种取向之间的差异:耦合不是“光源功率乘一个通用系数”。源的位置、方向、发光面积和结构都会改变结果。论文还指出,增大发光区域、镜面不均匀、镜损和折射率失配会降低效率。

可尝试的解法是侧向出光、反射结构、渐变模式转换器,或允许更多模式的接收波导。代价分别落在 die 工艺、尺寸、散射/吸收、布线面积和后续模式管理上。验证时必须把“进入界面的总功率”和“进入可传播模式的功率”分开,不能只看一张亮起来的光场图。

3. 光纤束的优势,来自接收空间;代价也来自空间

数值孔径 NA 表示光纤接受光线的角度范围。在空气中,接受半角 θ 满足 NA = sin θ。若近似轴对称发射强度 I(θ) ∝ cosᵐθ,并假设出光全部被接收面积覆盖、没有界面反射,积分得到角度捕获比例:

ηangle = 1 − cosm+1θ = 1 − (1 − NA²)(m+1)/2

这只是角度预算,不含有限纤芯、距离、填充率与模式选择。朗伯发射 m = 1、NA = 0.22 时,计算值是 4.84%;增大 NA 或改善方向性都能提高它,但不是免费提高。

CEA原始Fig.9:25微米MicroLED实测方向图和不同方向性及NA下计算的光纤捕获比例
原始证据 D12-CEA-F09:Patrick Le Maitre 等,2024,同上论文,PDF p8/印刷 p7,Fig. 9,原文。A 是 25 μm MicroLED 的归一化角分布实测,拟合指数 3.27;B 是不同方向性和 NA 下的角度捕获计算,不是逐条光纤实测。图中 4.8% 与 36% 对应不同 m、NA 条件,不是同一器件的改造前后效率。© 2024 The Author(s);来源标注 CC BY-NC-ND 4.0。原图和图注保留,未重绘;此处为直接技术分析所需的局部引用。

大芯径、多模和高 NA 可以增加容纳光的空间,却可能增加束径、通道间距和不同模式的传播时延差。NA 不是模态带宽的替代指标;还要看折射率分布、实际激发的模式以及长度。成像光纤也不能简单用“每根芯都装一个比特通道”估算容量:光斑覆盖几根芯、边界损耗和接收端如何分离才是核心。

微透镜的任务是重新分配角度与位置,让有限光功率更多落入有用的接受范围。MOSAIC 的原图给出了直接证据,但也给出了必须遵守的读图边界。

MOSAIC原始Fig.14:TIR微透镜打印前后的归一化实测角分布
原始证据 D12-MOSAIC-F14:Benyahya 等,MOSAIC: Breaking the Optics versus Copper Trade-off with a Wide-and-Slow Architecture and MicroLEDs,SIGCOMM 2025,PDF p10,Fig. 14;DOI。测角仪实测、纵轴归一化,支持 TIR 微透镜改变方向图,不单独证明绝对效率或最差通道裕量。原图及图注保留,图内未修改。©2025 权利人/作者,出版授权 ACM;此处仅引用直接分析所需原图,不代表获授权转载。

两边的峰值都是 1,是归一化结果,不是前后功率相等。需要补测的是规定 NA、规定接收面积内的绝对功率,并对 x/y/z 偏移和倾斜重复测量。

4. 波导材料:硅做基底,与硅负责导蓝光,是两件事

蓝光不能直接沿用通信波段硅芯波导:硅对这一波段的吸收是根本限制。SiN 等宽带隙介质可以放在硅载体上导可见光,但仍要设计足够隔离光场与吸收基底的包层。材料透明不等于实际刻蚀波导低损耗;几何、侧壁、膜质与弯曲同样重要。

Smith等原始Fig.3:SiN波导450至850nm实测传播衰减,短波使用散射成像,长波使用cutback
原始证据 D12-SMITH-F03:Jack A. Smith、Henry Francis、Gabriele Navickaite、Michael J. Strain,SiN foundry platform for high performance visible light integrated photonics,Optical Materials Express 13(2), 458–468 (2023),正式出版版本 PDF p4/印刷 p461,Fig. 3;DOI。800 nm 宽、150 nm 厚 SiN、TE 输入,3 块标称相同芯片均值;450/520 nm 用顶部散射衰减拟合,630/750/850 nm 用 cutback;误差条是斜率一个标准误。原图及原图注保留;依原文第一页 CC BY 4.0 署名引用;仅从原页裁切,图内内容未修改。

图上 −6.85 dB/cm 是 450 nm 的衰减斜率,不是增益;630 nm 对应 −0.98 dB/cm。前者在该样品上走 1 mm,传播项就约损失 0.685 dB。这个换算只说明长度预算,不能当作所有 SiN 工艺的指标;测试也没有测量 MicroLED 注入效率。

聚合物则提供另一类几何与封装选择:可以采用较大截面或柔性布线,但“聚合物”不是统一光学规格。材料、固化与老化会影响损耗;应在真实 LED 光谱、温湿度和弯曲条件下测量。已有蓝光 μLED 与 COP 聚合物波导的实验,是光传输与监测演示,不应升级成高速数据中心中介层已成熟的证据。Sekiguchi 等,2019。

5. PD 耦合:收得更多,也可能跑得更慢

光路终点不是“芯片表面”,而是有响应度的 PD 有源区。设计中要算光斑与有源区的重叠、窗口遮挡、像差、阵列边缘畸变,并核对该波长的响应度。理想线性条件下 Iphoto = R(λ)Preceived;面积再大,也补不回材料对该波长的低响应。

扩大 PD 容易接受偏移和离焦,但通常增加结电容;与互连和 TIA 输入共同作用后,会改变带宽与噪声。更强聚焦可以减小 PD,却收紧轴向、横向容差。真正的优化目标是“允许的装配偏差内,最差通道仍达到 BER 和功耗要求”,不是把单个指标最大化。具体尺寸与频响实测见 CEA Fig. 22,PDF p15/印刷 p14;完整解释见接收端技术深读。

对准后也并未结束。芯片、透镜、胶层和载体热膨胀不同,温度循环可能改变位置;折射率变化还会改变焦点或模式。是否严重依赖具体材料和约束,应做温度下的损耗/串扰矩阵,而不是引用一个通用“允许偏移几微米”。

6. 最有价值的下一步:一张能定位问题的光路账本

先定义起点为 die 外部已发出的光,终点为 PD 有源区收到的光,避免把外量子效率重复计算:

PPD = Pdie,out × ηTx耦合 × 10−αL/10 × η弯曲/交叉/连接 × ηRx耦合

α 用 dB/cm 时 L 必须用 cm。式中各项应在一致的波长、功率定义和模式激发条件下取得;不能把 CEA 的仿真耦合与另一工艺的传播损耗拼成“已实测系统”。对宽光谱 LED,积分谱功率与各段传输率得到 PPD;计算光电流时,才在积分中再乘响应度 R(λ),不能把安培与瓦特混在同一个预算里。

我建议按下面顺序验证,而不是先选最漂亮的路线图:

  1. 分离损耗。 以相同输入耦合比较多个长度,估算传播项;另测入口、出口和连接器。不能把总插损除以长度就称为传播损耗。
  2. 扫公差和邻居。 记录位置、倾角、温度变化时,每个发送通道在所有接收像素上的功率;同时测 BER,排除“收到更多光,其实是串扰更多”。
  3. 测脉冲而非只测亮度。 同一平均光功率下比较频响、眼图与误码;多模传播和不同通道长度可能带来波形或时序代价。
  4. 保留分布。 给出样本数、边缘通道、重复装配和温度循环后的最差值。一个中心通道的最佳耦合率,不能代表阵列可制造性。

本篇证据支持的是:光纤束已有具体系统研究,片内耦合存在明确的物理约束和仿真探索,可见光 SiN 已有独立传播实测。它们不能组成未经验证的产品承诺。最值得攻克、也最适合形成个人技术积累的,是 die—光学—PD 的联合容差设计与可归因测试:知道光究竟在哪里丢失,才能判断该改 die、改封装,还是改接收电路。

引用与说明

本文为独立技术分析,测量、仿真、作者估算、公司公告与教学假设分别标注。第三方原图只用于直接讨论其数据、结构和边界,版权仍归原权利人;开放许可按图注执行,其他局部引用不代表取得通用转载授权。未上传完整论文或受限调研报告,内容不代表原作者、出版商、机构或雇主意见。

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