接收端决定系统上限:硅 PD、CMOS 接收阵列与 GaN PD 怎样选?
把光谱响应、面积、电容、TIA 噪声和邻道活动放在同一条接收链里,用原始频响、眼图与 BER 证据解释硅 PD、CMOS 阵列和 GaN PD 的真实取舍。
MicroLED 光互连 · 技术难点深读:接收链的取舍。原始图表与独立技术分析分开呈现;点击图像可查看大图。
MicroLED 已经能高速发光,为什么链路还需要反复优化接收器?
因为“看见光”和“可靠地区分相邻两个高速符号”,是不同任务。前者只要求积累出可辨认的电荷;后者要求在很短的时间内,从噪声、上一符号的残留、邻道干扰和电路偏置中,恢复出足够清晰的信号。
更大的光敏面积可能接住更多光,却也增加电容;更宽的接收带宽可能减轻码间干扰,却会纳入更多噪声;更高的响应度若只出现在错误波长,对实际链路没有帮助。
所以,接收端不能只问“用什么材料”。真正的选择单位应是:入射光谱与光斑+PD 结构+互连+TIA+判决电路。TIA 即跨阻放大器,负责把微弱光电流转换成后级能够处理的电压。
一、先纠正分类:硅 PD 与 CMOS 阵列不是互斥路线
“硅 PD”说明吸收和产生光电流的材料;“CMOS 接收阵列”更多说明工艺与集成方式。一组硅 PD 完全可能与 CMOS 接收电路组成阵列,甚至就是某条所谓 CMOS 路线的光敏部分。
| 比较对象 | 它真正描述什么 | 关键问题 |
|---|---|---|
| 专用硅 PIN/其他硅 PD | 探测器材料与结结构,可采用独立制造再集成 | 指定可见光波长下的响应、载流子收集时间、电容、暗电流 |
| CMOS/CIS 工艺衍生接收阵列 | 光敏结构与电路、键合和阵列制造的组合 | 光是否进入有效区域;电荷能否快速导出;TIA 与布线是否匹配 |
| GaN/InGaN 微型 PD | 可与发射平台共享部分材料或加工环节 | 吸收谱、耗尽区、光学腔与电容能否同时满足链路要求 |
普通相机像素通常围绕曝光、电荷积分与逐行/逐列读出工作;高速通信接收器需要持续处理快速变化的光电流。两者可以共享工艺积累,却不是把相机像素接上光纤就完成替换。
Avicena 与 TSMC 的官方公告采用的表述是:利用 CIS 工艺能力,优化可见光硅 PD 阵列,并将光电阵列与 CMOS IC 键合。它支持“影像传感器工艺经验可以被用于通信器件”,不支持“普通相机读出电路已经足够”。P1
同样,背照式结构可能改善入光与金属遮挡,但不能自动解决载流子输运、电容和读出速度;前照式也不能仅凭名称就被判定不适合高速通信。
二、第一道关:每瓦入射光能换来多少有用电流?
对没有内部倍增增益的探测器,单色光下的响应度近似为:
Iphoto = ℛ(λ)Pincident
η 是外量子效率,ℛ 的单位是 A/W;P 必须定义在探测器入光参考面,而不是 LED 的积分球总出光。对有实际谱宽的 LED,还要把光谱功率与 ℛ(λ) 逐波长相乘并积分,不能只抄某个峰值响应度。
**本文计算示例,不是某个产品实测:**在 450 nm、无内部增益的条件下,100% 外量子效率对应约 0.363 A/W;若效率为 60%,则约为 0.218 A/W。同样 10 μW 的入射功率,后一种假设下产生约 2.18 μA 光电流。但这仍不能直接给出 BER,还需要光信号摆幅、噪声与时间响应。
这也解释了为什么不能把蓝光 Si PD 与 405 nm 下的 GaN PD 数据直接排名。首先要保证它们接收的是同一种发射光谱。此前关于 GaN 谱线失配的文章已讨论这一边界;本文继续往电容和电路层推进。
三、第二道关:面积增大,为什么可能降低有效灵敏度?
PD 并不直接面对一个没有代价的放大器。接收节点看到的是总输入电容:
结电容只是其中一项,焊盘、键合、走线和 TIA 输入也会占据预算。在简单一阶 RC 模型中,带宽约为 1/(2πReqCtotal);实际 TIA 是反馈系统,还受环路增益、稳定性及补偿影响,不能把反馈电阻直接代入这个式子当成设计结果。
扩大 PD 的收益取决于光斑:如果原本只截获一部分光,增大面积能提高光电流;如果光斑已经全部落入有效区,继续扩大面积主要增加电容和背景光,却未必增加有用信号。后者往往会迫使 TIA 以更大的功耗维持速度或稳定性。
CEA 的 GaN 微型 PD 数据直观地展示了尺寸与反偏的关系。
这张图不只是“越小越快”。它提示了两种优化手段:缩小有效结面积,或者通过反偏改变电场与耗尽区。但前者会收紧光耦合和对准容差,后者要付出偏置电路、漏电、击穿裕量和可靠性方面的代价。没有一种手段只产生收益。
需要特别防止另一个误读:这组数据不等于 GaN 材料的速度上限,也不证明硅在所有条件下更快。它描述的是这批结构、这套测试链和这个波长。
四、第三道关:带宽越宽,噪声为什么也越难收拾?
接收链既要把信号传过去,也会把噪声带进来。在一个用于理解取舍的输入折算模型中,噪声包含光电流与暗电流的散粒噪声、电阻热噪声、放大器电流噪声,以及放大器电压噪声通过输入电容产生的贡献。
其中,若电压噪声密度 en 近似平坦,电容项的输入电流噪声密度随频率近似为:
积分到带宽 B 后,该项噪声方差 ∝ Ctotal²B³
这是忽略高阶响应和频率相关噪声后的推导,用来解释趋势,不是某一 TIA 的完整噪声模型。它说明:当高频电容噪声占主导时,盲目加宽带宽或者扩大 PD,可能明显降低判决余量。
反过来,带宽太窄会让前一符号的尾巴侵入当前符号,产生码间干扰。最佳接收带宽因此来自噪声与时域失真的平衡,而不是“越宽越好”。
这也解释了同一研究中一个看似矛盾的现象:较大 GaN PD 的小信号带宽不高,仍可以展示更高数值的比特率眼图。小信号 −3 dB 点不是不可跨越的频率墙;眼图是否能张开,还与波形、信噪比和判决条件有关。
所以,“带宽是多少”和“在指定光功率下达到多少 BER”,应当同时列在测试表里,不能互相替代。
五、实验室硅接收器与集成阵列,差在哪里?
看下面这套采用硅 PIN 接收器的原始实验台。透镜、显微物镜、外部仪器和精细对准,共同服务一个接收通道。它很适合探索器件和调制极限,但不是一颗通信接收阵列芯片的面积与能耗证明。
原图把外部透镜、反射镜、硅 PIN 接收器和仪器接口一起画了出来;照片里标出的 16 cm 与 11.5 cm 是台架光路的局部尺寸,不是产品传输距离规格。图中用独立镜片、支架和外置接收器完成的功能,若进入密集阵列,就必须重新核算占用面积、耦合容差与功耗。
进入阵列后,PD 与 TIA 要在限定像素面积内放下;电源、地、邻道线路和热场开始共享;每个通道还会有偏置和制造偏差。外部仪器能承担的功能,不会自然变成片上低功耗电路。
Avicena 的原始 BER 图可以帮助观察这件事:相同集成链路中,邻道活动后,各通道受到的影响并不一致。
作者另用参考接收器做过单通道测试,并明确指出集成 PD/TIA 的表现与参考方案不同。P4 这里值得带走的不是一个跨装置的灵敏度差值,而是一条测试原则:参考接收器可以证明发射器的潜力,但产品接收器才能说明产品链路的余量。
至于干扰来自光串扰、供电、地回路,还是热变化,单独一张 BER 图无法完全拆开。需要额外设置电活动但不入光、入光但电路不切换、改变邻道功率等控制实验。
六、怎样比较三类方案,才不会得到一个虚假的冠军?
一份可用的接收器比较,至少应包含下面这些字段:
| 维度 | 必须对齐的条件 | 要交付的结果 |
|---|---|---|
| 光输入 | 相同 LED 光谱、光斑、入射角、参考面 | 光电流、光学调制幅度 OMA;总发光功率另列 |
| 电学 | 相同数据率、码型、调制与 BER 定义 | 输入电容、频响、输入折算噪声;不只最大带宽 |
| 阵列 | 相同活动通道数、图样和功率状态 | 每通道及最差通道 BER、偏置、串扰分布 |
| 使用环境 | 温度、偏置、对准偏移及老化状态 | 达到同一目标 BER 所需的光功率与接收端功耗 |
建议先固定发射器与光路,只换接收链;再固定接收电路,比较不同 PD。把耦合损耗、探测效率和电路噪声分别测出来,才能知道该改透镜、结结构、键合还是 TIA。
公开证据尚不足以在统一条件下,给这三类方案做完整的最低能耗排名。当前能成立的是:硅路线可以利用成熟可见光探测工艺;CMOS/CIS 衍生方案要解决高速读出与集成;GaN 共平台提供工艺协同机会,但不能免除吸收和接收噪声的约束。材料名称本身不提供系统胜负。
结语:真正的接收指标,是在有限预算里把比特认对
对接收端而言,响应度、面积和带宽都只是中间量。最终应问:在真实波长、真实光斑、真实阵列活动和温度下,达到规定 BER,要多少入射光、多少功耗、多少面积?
这也给工程工作指出了一个具体方向:把 PD—键合—TIA—光耦合 放在同一个模型与测试闭环里。它比只追逐某一颗 PD 的峰值响应度更接近系统需求。这里的机会判断来自公开证据和通用分析,不代表任何雇主或内部项目。
来源与图像边界
- P1 Avicena/TSMC,2025-04-22,PD 阵列合作官方公告,核查 2026-09-19;仅用来说明公开工艺方向,不把公告参数当作独立实测。
- P2 P. Le Maitre 等,2024,Short range optical communication with GaN-on-Si microLED and microPD matrices。DOI,重点为 §5.1.1、Figs.21–23。
- P3 M. S. Islim 等,2017,Towards 10 Gb/s OFDM-based visible light communication using a GaN violet micro-LED,Photonics Research 5(2), A35–A43。DOI,采用作者接受稿的页码定位。
- P4 B. Pezeshki,2025,GaN Micro-LEDs for Chip-to-Chip Interconnects。原始会议论文。
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